Functional film coating equipment 功能性薄膜涂層設備
匯成在PMA I 專利技術的基礎上，開發出PMA II 和EFC專利技術，并成功的將PMA II 和EFC技術集成到新一代涂層系統上。該系統具有靈活的配置，可以與ARC、MS、HIPIMS等技術組合使用，為新涂層，新材料的開發提供更多的可能性，為刀具涂層、模具涂層、零部件涂層、DLC涂層、GLC涂層、ta-c涂層等提供完整的涂層方案。
廣泛應用于科研、半導體、工具、刀具、模具、零部件、醫療器械、光學、新能源等行業。可鍍制AlTiN、TiAlN、AlTiXN、AlCrN、AlCrXN、TiSiN、CrN、TiN等氮化物涂層，Ta-c、類石墨、Cr+a-c、Cr+a-c:H、W+a-c、W+a-c:H等碳基，Cr+a-c:H、CrN+a-c:H等PECVD涂層。
匯成真空提供最先進的PVD、PACVD等功能性涂層的廣泛產品組合技術設備，用于適應各種加工要求和工件材料的高速鋼和硬質合金工件。
匯成真空涂層節省了總體加工成本，因為它們允許更高的切削速度、進料和由于延長使用壽命而減少的更換工具的時間。涂層的低摩擦性能和硬度允許減少潤滑和冷卻，建立可預見的磨損，保證加工零件的表面質量更好。
高性能涂層：
高性能涂層是專門設計用于對堅韌和粗糙的工件材料進行高速、大進料加工的工具，工況高熱和高機械負荷，最小或低潤滑和冷卻。
涂層價值：
匯成真空的眾多特殊用途的涂層加工在HSS和硬質合金工件上，是切削金屬、塑料、復合材料和包括木材等其他材料的重要部件。它們提供高效率，延長工件使用壽命，并降低總體成本。
| 主要模塊 | |
| Arc | HiPIMS |
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創新的APA蒸發器技術（先進的等離子輔助）基于陰極真空電弧，為新的層結構提供了多種開發可能性。 優勢： ●靶材使用率高，降低靶材成本 ●沉積率高 ●磁場可調節 ●靶材更換時間短 ●等離子體密度高 ●完美的涂層結合力 |
HiPIMS代表高功率脈沖磁控濺射。 優勢： ●離化率高（類似于電弧法） ●高功率密度，從 100 到1000 W/cm2 ●等離子密度非常高 ●可以通過等離子參數設置來調節層結構 ●涂層非常光滑 ●完美的涂層結合力 ●在低基材溫度下沉積致密的涂層 |
| 其他模塊 | |
| 濺射 | 氮化 |
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在濺射工藝中，通過高能離子（Ar）轟擊靶材，分離成原子進而轉化成氣相。通過結合濺射材料和其他氣體，將涂層沉積在基材上。 優勢： ●可以濺射多種材料 ●多種工藝變量可用 ●光滑的涂層 ●結合功率刻蝕工藝AEGD獲得好的涂層結合力 |
使用氮化模塊，可在同一個系統、同一個批次，在PVD和/或PACVD涂層工藝之前進行等離子氮化工藝。由此生成一個硬化層，為后續的PVD/PACVD涂層提供完美的支撐。 優勢： ●優化工具和零部件屬性 ●替代昂貴的基材 ●顯著延長壽命 ●可以應用所有PVD涂層 |
| DLC | ta-C |
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DLC就是類金剛石涂層，指一系列具有超低摩擦系數的非晶碳涂層。使用DLC模塊，可以通過使用PVD和/或PACVD工藝來生成不同的DLC涂層。標準DLC涂層包括不含金屬或含金屬的碳基涂層。 優勢： ●完美的涂層結合力 ●高耐磨性 ●低摩擦系數 ●光滑的涂層 |
ta-C 就是不含氫的四面體非晶碳，指的是一組極硬、低摩擦的非晶碳涂層。使用ta-C模塊可以生產不同的ta-C涂層。 優勢： ●適用于比DLC更高的溫度環境 ●非常高的耐磨性 ●完美的涂層結合力 ●光滑的涂層 |
