High power impulse magnetron sputtering coating system HiPIMS濺射涂層系統(tǒng)
HiPIMS-800結(jié)合了經(jīng)典直流濺射鍍膜系統(tǒng)的所有優(yōu)點(diǎn)和最新的HiPIMS技術(shù)的能力。該系統(tǒng)共配備六個(gè)濺射陰極，其中四個(gè)可以在HIPIMS或DC模式下工作。另外兩個(gè)直流陰極可以操作，例如，提供更復(fù)雜的多層涂層，提供顏色和頂層涂層，或只是增加沉積速率。這些技術(shù)在一個(gè)過程中的絕對(duì)自由組合，以非常低的生產(chǎn)成本提供了有限的涂層設(shè)計(jì)范圍。在純HiPIMS模式下，沉積速率為2μm/h，處理時(shí)間為4-5小時(shí)。當(dāng)所有6個(gè)陰極同時(shí)工作時(shí)，可達(dá)到3μm/h。這是迄今為止1.800圓柄工具或5.000可轉(zhuǎn)位刀片涂層容量的難以置信的低生產(chǎn)時(shí)間。
HiPIMS-800能夠沉積所有可用的HCVAC濺射涂層和市場(chǎng)上幾乎所有的PVD涂層。此外，它是開發(fā)定制流程的理想機(jī)器。客戶友好用戶界面“數(shù)據(jù)視圖”和集成規(guī)劃工具“數(shù)據(jù)計(jì)劃”有助于設(shè)計(jì)單獨(dú)的涂層解決方案。您的涂層將使您的產(chǎn)品在市場(chǎng)上脫穎而出，讓用戶獲得競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。其他功能，如用戶友好的平板電腦和手機(jī)遠(yuǎn)程控制，便于維護(hù)的組件，全自動(dòng)陰極百葉窗，自動(dòng)關(guān)門和快速更換涂層臺(tái)的裝置使HiPIMS-800成為生產(chǎn)和開發(fā)最先進(jìn)的高性能涂層的最佳涂層系統(tǒng)。
| 主要模塊 | |
| Arc | HiPIMS |
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創(chuàng)新的APA蒸發(fā)器技術(shù)（先進(jìn)的等離子輔助）基于陰極真空電弧，為新的層結(jié)構(gòu)提供了多種開發(fā)可能性。 優(yōu)勢(shì)： ●靶材使用率高，降低靶材成本 ●沉積率高 ●磁場(chǎng)可調(diào)節(jié) ●靶材更換時(shí)間短 ●等離子體密度高 ●完美的涂層結(jié)合力 |
HiPIMS代表高功率脈沖磁控濺射。 優(yōu)勢(shì)： ●離化率高（類似于電弧法） ●高功率密度，從 100 到1000 W/cm2 ●等離子密度非常高 ●可以通過等離子參數(shù)設(shè)置來調(diào)節(jié)層結(jié)構(gòu) ●涂層非常光滑 ●完美的涂層結(jié)合力 ●在低基材溫度下沉積致密的涂層 |
| 其他模塊 | |
| 濺射 | 氮化 |
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在濺射工藝中，通過高能離子（Ar）轟擊靶材，分離成原子進(jìn)而轉(zhuǎn)化成氣相。通過結(jié)合濺射材料和其他氣體，將涂層沉積在基材上。 優(yōu)勢(shì)： ●可以濺射多種材料 ●多種工藝變量可用 ●光滑的涂層 ●結(jié)合功率刻蝕工藝AEGD獲得好的涂層結(jié)合力 |
使用氮化模塊，可在同一個(gè)系統(tǒng)、同一個(gè)批次，在PVD和/或PACVD涂層工藝之前進(jìn)行等離子氮化工藝。由此生成一個(gè)硬化層，為后續(xù)的PVD/PACVD涂層提供完美的支撐。 優(yōu)勢(shì)： ●優(yōu)化工具和零部件屬性 ●替代昂貴的基材 ●顯著延長(zhǎng)壽命 ●可以應(yīng)用所有PVD涂層 |
| DLC | ta-C |
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DLC就是類金剛石涂層，指一系列具有超低摩擦系數(shù)的非晶碳涂層。使用DLC模塊，可以通過使用PVD和/或PACVD工藝來生成不同的DLC涂層。標(biāo)準(zhǔn)DLC涂層包括不含金屬或含金屬的碳基涂層。 優(yōu)勢(shì)： ●完美的涂層結(jié)合力 ●高耐磨性 ●低摩擦系數(shù) ●光滑的涂層 |
ta-C 就是不含氫的四面體非晶碳，指的是一組極硬、低摩擦的非晶碳涂層。使用ta-C模塊可以生產(chǎn)不同的ta-C涂層。 優(yōu)勢(shì)： ●適用于比DLC更高的溫度環(huán)境 ●非常高的耐磨性 ●完美的涂層結(jié)合力 ●光滑的涂層 |
